公開(公告)號
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CN101121930A
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公開(公告)日
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2008.02.13
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申請(專利)號
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CN200710098280.4
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申請日期
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2007.04.25
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專利名稱
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將多種細(xì)胞粘附到同一基底上的裝置及粘附方法
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主分類號
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C12N11/00(2006.01)I
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分類號
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C12N11/00(2006.01)I;C12N11/14(2006.01)N
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2006.8.11 CN 200610089251.7
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申請(專利權(quán))人
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國家納米科學(xué)中心
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發(fā)明(設(shè)計(jì))人
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李 勇;蔣興宇
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地址
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100080北京市中關(guān)村北一街2號
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頒證日
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國際申請
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進(jìn)入國家日期
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專利代理機(jī)構(gòu)
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北京泛華偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
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代理人
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王鳳華
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國省代碼
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北京;11
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主權(quán)項(xiàng)
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一種將多種細(xì)胞粘附到同一基底上的裝置,包括: 一基底;所述基底上表面上依次蒸鍍有鈦粘附層和金層,及通過在1-5mM硫醇的乙醇溶液中自組裝于所述基底上表面上的金層上的惰性單分子膜層; 一下表面上具有至少一組微凹槽單元的經(jīng)氧化處理后的具親水表面的聚二亞甲基硅氧烷印章;所述微凹槽單元包括:位于中間位置的直線型中間凹槽,和分別位于所述直線型中間凹槽兩側(cè)的第一凹槽和第二凹槽;所述第一凹槽和第二凹槽的中間段與所述直線型中間凹槽平行且間距為100-500微米,所述第一凹槽和第二凹槽的中間段之外的兩端部段向遠(yuǎn)離直線型中間凹槽的方向傾斜;所述直線型中間凹槽、第一凹槽和第二凹槽的長度在1.2~1.5cm范圍內(nèi),寬度在20-300微米;所述直線型中間凹槽、第一凹槽和第二凹槽的槽端處分別設(shè)有與相應(yīng)的凹槽相通的垂向通孔; 所述聚二亞甲基硅氧烷印章的下表面貼覆于所述基底的惰性單分子膜層上;和 一負(fù)極連通于所述基底,正極連通于所述聚二亞甲基硅氧烷印章的電壓為1.0伏-1.4伏的電源。
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摘要
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本發(fā)明涉及將多種細(xì)胞粘附到同一基底上的裝置和方法,其為在基底表面先用金表面形成以寡乙二醇為末端的單層膜,細(xì)胞不會(huì)在該表面任何地方粘附;然后用PDMS中的微流管道為掩膜,進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng);然后在不同管道通入不同的細(xì)胞懸液,等細(xì)胞粘附后,把PDMS拿開,幾種不同的細(xì)胞便有序的吸附在表面。該制備方法和裝置簡單和易操作、并且可以控制不同種細(xì)胞間的運(yùn)動(dòng),以便研究其相互作用。該粘附了多種細(xì)胞的基底可以用于藥物篩選,在粘附的細(xì)胞培養(yǎng)的條件下加入待篩選的藥物,然后對比加入藥物的樣品和沒有加入藥物的樣品之間的細(xì)胞移動(dòng)的不同,可以了解哪種藥物可以影響這幾種細(xì)胞之間的相互作用。
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國際公布
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