公開(公告)號
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CN100360536C
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公開(公告)日
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2008.01.09
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申請(專利)號
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CN200380109937.2
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申請日期
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2003.12.23
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專利名稱
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新型化合物和其用途
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主分類號
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C07D487/22(2006.01)I
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分類號
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C07D487/22(2006.01)I;A61K31/409(2006.01)I;A61P31/04(2006.01)I
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權
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2002.12.23 GB 0229742.2
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申請(專利權)人
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命運之神藥品有限公司;索爾維亞斯股份公司
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發(fā)明(設計)人
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D·布倫迪什;X·D·馮;W·洛夫;W·里斯-威廉斯;B·皮然
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地址
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英國布賴頓
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頒證日
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國際申請
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2003-12-23 PCT/GB2003/005649
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進入國家日期
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2005.08.23
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專利代理機構
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中國專利代理(香港)有限公司
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代理人
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劉維升;李連濤
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國省代碼
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英國;GB
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主權項
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式I的化合物: 其中: X1,X2,X3和X4獨立地代表氫原子,親脂性片斷,苯基,低級烷基,烷芳基或芳烷基,或下式的陽離子基團: -L-R1-N+(R2)(R3)R4 其中: L是不存在或連接片斷,其選自苯氧基、亞苯基、磺酰胺基、氨基磺酰基、磺酰亞氨基、苯基磺酰胺基、苯基氨基磺;㈦、尿烷和氨基甲酸酯連接片斷; R1代表低級亞烷基、低級亞烯基或低級亞炔基,其任選被一個或多個選自低級烷基、低級亞烷基、氟、OR5、C(O)R6、C(O)OR7、C(O)NR8R9、NR10R11和N+R12R13R14的取代基取代;和 R2、R3和R4獨立地代表H,芳基,低級烷基,低級烯基或低級炔基,后三者任選被一個或多個選自低級烷基、低級亞烷基、芳基、OR5、C(O)R6、C(O)OR7、C(O)NR8R9、NR10R11和N+R12R13R14的取代基取代; Z是-CH;和 Y1、Y2、Y3和Y4不存在或者獨立地代表芳基,低級烷基,低級烯基或低級炔基,后三者任選被一個或多個選自低級烷基、低級亞烷基、芳基、OR5、C(O)R6、C(O)OR7、C(O)NR8R9、NR10R11和N+R12R13R14的取代基取代;和 R5、R6、R7、R8、R9、R10、R12、R13和R14獨立地代表H或低級烷基, 并且其中: 所述親脂性片斷是式-(CH2)pCH3的飽和的直鏈烷基,其中″p″是1-22的整數(shù); 所述低級烷基獨立選自直鏈或支鏈、環(huán)狀或非環(huán)狀C1-C20烷基; 所述低級亞烷基獨立選自直鏈或支鏈、環(huán)狀或非環(huán)狀C1-C20亞烷基; 所述低級烯基獨立選自直鏈或支鏈、環(huán)狀或非環(huán)的C2-C20烯基; 所述低級亞烯基獨立選自直鏈或支鏈、環(huán)狀或非環(huán)的C2-C20亞烯基; 所述低級炔基獨立選自直鏈或支鏈、環(huán)狀或非環(huán)的C2-C20炔基; 所述低級亞炔基獨立選自直鏈或支鏈、環(huán)狀或非環(huán)的C2-C20亞炔基; 所述芳基獨立選自6-10元碳環(huán)芳族基團; 所述芳烷基獨立選自通過以上定義的低級烷基連接到卟啉環(huán)上的以上定義的芳基基團; 條件是X1、X2、X3和X4中的至少一個是如上定義的陽離子基團,且X1、X2、X3和X4中的至少一個是氫原子。
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摘要
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式(I)的化合物:其中X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3,Y4和Z的定義如說明書所述,和這種化合物的金屬化形式,其可用于需要光動力學化合物的醫(yī)學狀況的治療中。還公開了藥物制劑和治療那些需要光動力學試劑的醫(yī)學狀況的方法。還公開了包含本發(fā)明化合物的消毒液,和其用途。
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國際公布
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2004-07-08 WO2004/056828 英
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