公開(公告)號
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CN101039939A
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公開(公告)日
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2007.09.19
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申請(專利)號
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CN200580034902.6
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申請日期
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2005.10.05
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專利名稱
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作為CDK1抑制劑的喹唑啉基亞甲基噻唑啉酮類
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主分類號
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C07D417/06(2006.01)I
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分類號
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C07D417/06(2006.01)I;A61K31/517(2006.01)I;A61K31/427(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2004.10.14 US 60/618,612;2005.5.13 US 60/681,079
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申請(專利權(quán))人
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霍夫曼-拉羅奇有限公司
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發(fā)明(設(shè)計)人
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陳 力;陳少清;劉進(jìn)軍
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地址
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瑞士巴塞爾
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頒證日
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國際申請
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2005-10-05 PCT/EP2005/010703
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進(jìn)入國家日期
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2007.04.12
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專利代理機(jī)構(gòu)
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中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
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代理人
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王 旭
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國省代碼
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瑞士;CH
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主權(quán)項
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下式的化合物: 其中 R1為氫,低級烷基或 X選自:低級亞烷基,含有3至6個碳原子的環(huán)低級亞烷基,和羥基低級亞烷基; 選自: 芳基環(huán), 含有3至6個碳原子的環(huán)烷基環(huán), 含有3至5個碳原子和1至2個選自氧、氮和硫中的雜原子的4至6元雜環(huán)烷基環(huán),以及 含有1至2個選自氧、硫和氮中的雜原子的5或6元雜芳環(huán); R5和R6獨(dú)立地選自:氫,羥基,羥基-低級烷基,低級烷基,鹵素,全氟-低級烷基和低級烷氧基; R3選自:氫,-NH-R7和-NH-C(O)-R8; R4選自:氫,低級烷基和-O(CH2CH2O)y-R10; R7為氫或低級烷基; R8和R10為低級烷基; n為0至1的整數(shù);以及 y為0至3的整數(shù); 前提條件是,當(dāng)n為0且R1為氫或低級烷基時,那么R3/R4不能都為氫;或 化合物的N-氧化物,其中R1包含在雜芳環(huán)中的氮;砜,其中R1包含在雜環(huán)烷基環(huán)或雜芳環(huán)中的硫;或其藥用鹽。
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摘要
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本發(fā)明公開了式(I)的喹唑啉噻唑啉酮衍生物,其中R1,R3,R4,X和n具有如上定義的含義,其證明CDK1抗增殖活性,并且可以用作抗癌藥劑。
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國際公布
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2006-04-20 WO2006/040050 英
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