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吡啶化合物在制備用于治療皮膚損傷的藥物中的應(yīng)用

公開(公告)號 CN101052400A  
公開(公告)日 2007.10.10  
申請(專利)號 CN200580037615.0  
申請日期 2005.10.28  
專利名稱 吡啶化合物在制備用于治療皮膚損傷的藥物中的應(yīng)用  
主分類號 A61K31/444(2006.01)I  
分類號 A61K31/444(2006.01)I;A61K31/4418(2006.01)I;A61K31/4709(2006.01)I;A61K31/4725(2006.01)I;A61K31/502(2006.01)I;A61K31/506(2006.01)I;A61K31/517(2006.01)I;A61K31/5377(2006.01)I;A61K31/5415(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P17/00(2006.01)I;A61P17/02(2006.01)I;A6  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2004.10.29 JP 315553/2004  
申請(專利權(quán))人 田邊制藥株式會社  
發(fā)明(設(shè)計)人 高木保;直塚敦子  
地址 日本大阪府  
頒證日  
國際申請 2005-10-28 PCT/JP2005/020241  
進(jìn)入國家日期 2007.04.29  
專利代理機(jī)構(gòu) 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 劉 健;李連濤  
國省代碼 日本;JP  
主權(quán)項 式[I]的吡啶化合物或其可藥用鹽在制備用于治療皮膚損傷的藥物中的應(yīng)用: 其中R是具有下式的取代的吡啶基: R0是C1-6烷氧基-C1-6烷基,R1和R2是相同或不同的,并且是C1-6烷氧基,X是式=N-的基團(tuán)或下式所示基團(tuán): 環(huán)A是任選具有取代基的飽和或不飽和10元含氮雜二環(huán)基,并且虛線是指存在或不存在雙鍵。  
摘要 本發(fā)明涉及式[I]的吡啶化合物或其可藥用鹽在制備用于治療皮膚損傷的藥物中的應(yīng)用,其中R是具有下式的取代的吡啶基,R0是C1-6烷氧基-C1-6烷基,R1和R2是相同或不同的,并且是C1-6烷氧基,X是式=N-的基團(tuán)或上式所示基團(tuán),環(huán)A是任選具有取代基的飽和或不飽和10元含氮雜二環(huán)基,并且虛線是指存在或不存在雙鍵。  
國際公布 2006-05-04 WO2006/046774 英  
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