公開(公告)號
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CN1197870C
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公開(公告)日
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2005.04.20
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申請(專利)號
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CN01814114.5
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申請日期
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2001.08.10
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專利名稱
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一種紅霉素衍生物的制備方法及其中間體
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主分類號
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C07H17/08
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分類號
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C07H17/08;C07H1/00
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權
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2000.8.14 JP 245850/2000
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申請(專利權)人
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大正制藥株式會社
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發(fā)明(設計)人
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樫村政人;神山裕章;桑田剛志;鈴木紳之
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地址
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日本東京都
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頒證日
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國際申請
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PCT/JP2001/006928 2001.8.10
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進入國家日期
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2003.02.13
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專利代理機構(gòu)
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北京市金杜律師事務所
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代理人
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陳文平
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國省代碼
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日本;JP
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主權項
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一種制備如下定義的化合物(V)的方法,該方法包括以下步驟:(A)通過紅霉素與乙二醇碳酸酯反應,隨后將9-位上的酮還原,和可選地保護2’-和/或4”-位上的羥基,提供下式化合物(I):其中R1和R2可以相同或不同,為氫原子,式-CO-RA—其中RA是C1-3烷基、被1-3個鹵原子取代的C1-3烷基、C1-3烷氧基、苯基、苯氧基、芐氧基、或被1-3個選自C1-3烷基、C1-3烷氧基、硝基、氰基、鹵原子、乙;⒈交土u基的原子/取代基取代的苯基,或被2-3個選自C1-4烷基、苯基和芐基的取代基取代的甲硅烷基,(B)將化合物(I)與式(1)化合物反應:其中A是CH=CH或C≡C;R5和R6可以相同或不同,為C1-7烷基,并可選地保護所形成的3-羥基,得到下式化合物(II):其中R3與上述R1定義相同;R2和A如上文所定義,(C)將化合物(II)與式(2)化合物反應:X-R4(2)其中X是鹵原子;R4是下式基團:其中R7和R8是氫原子,或者它們與相鄰的碳原子一起形成苯核,或者下式基團:其中Ar是吡啶基,得到下式化合物(III):其中A、R2、R3和R4如上文所定義,(D)將化合物(III)與式(3)化合物反應:其中R9是氫原子、氯原子、直鏈或支鏈C1-4烷基、C1-3烷氧基、苯基或芐基;R10和R11可以相同或不同,為氯原子、直鏈或支鏈C1-4烷基、C1-3烷氧基、苯基或芐基,得到下式化合物(IV):其中A、R2、R3和R4如上文所定義,和(E)將化合物(IV)在9-位羰基化,在3-位羰基化,在11,12-位環(huán)氨基甲酸酯化,并將2’-羥基去保護,得到下式化合物(V):其中A和R4如上文所定義。
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摘要
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本發(fā)明提供了一種可用于有效合成6-O-取代的酮內(nèi)酯衍生物的制劑方法,該方法包括一個經(jīng)由6,9-環(huán)狀縮醛5-O-德糖胺基紅霉素內(nèi)酯衍生物、通過9-位側(cè)選擇性裂解環(huán)狀縮醛的C-O鍵而在6-位上引入一個取代基的特征步驟,在9-和3-位轉(zhuǎn)化為羰基的步驟,和11,12-環(huán)氨基甲酸酯化步驟,從而得到6-O-取代的酮內(nèi)酯衍生物。
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國際公布
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WO2002/014339 日 2002.2.21
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