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選擇性制備芳基5-硫代-β-D-吡喃己醛糖苷的方法

公開(kāi)(公告)號(hào) CN1675233A  
公開(kāi)(公告)日 2005.09.28  
申請(qǐng)(專利)號(hào) CN03819142.3  
申請(qǐng)日期 2003.08.08  
專利名稱 選擇性制備芳基5-硫代-β-D-吡喃己醛糖苷的方法  
主分類號(hào) C07H15/20  
分類號(hào) C07H15/20;C07H15/203;//A61K31/7034,A61P3/10,A61P13/12,A61P43/00  
分案原申請(qǐng)?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2002.8.9 JP 233015/2002;2003.4.1 JP 97839/2003  
申請(qǐng)(專利權(quán))人 大正制藥株式會(huì)社  
發(fā)明(設(shè)計(jì))人 佐藤正和;柿沼浩行;淺沼肇  
地址 日本東京都  
頒證日  
國(guó)際申請(qǐng) PCT/JP2003/010159 2003.8.8  
進(jìn)入國(guó)家日期 2005.02.07  
專利代理機(jī)構(gòu) 北京市金杜律師事務(wù)所  
代理人 楊宏軍  
國(guó)省代碼 日本;JP  
主權(quán)項(xiàng) 一種制備下式III所表示的芳基5-硫代-β-D-吡喃己醛糖苷衍生物的方法,是利用下述反應(yīng)過(guò)程,使式I表示的5-硫代-D-吡喃己醛糖衍生物和式II表示的Ar-OH,在PR11R12R13所表示的膦類以及R21-N=N-R22所表示的偶氮試劑的存在下發(fā)生反應(yīng)而進(jìn)行制備,上述式I以及III中,波紋線是指包含D型、L型、及其混合物的任何一種立體異構(gòu)體;Y為-O-或者-NH-;R1、R2、R3及R4可相同或者不同,為氫原子、C2-10酰基、C1-6烷基、C7-10芳烷基、C1-6烷基C7-10芳烷基、烯丙基、三(C1-6烷基)甲硅烷基、C1-6烷氧基C1-6烷基或C2-6烷氧基羰基;或者當(dāng)Y為-O-時(shí),R1和R2、R2和R3、或者R3和R4能夠相互作用而形成-C(RA)(RB)-,其中RA及RB可相同或者不同,表示氫原子、C1-6烷基或苯基;上式II中,Ar表示能夠被任何取代基取代的芳基;PR11R12R13中,R11~R13可相同或不同,表示可被C1-6烷基取代的苯基、吡啶基或C1-6烷基;R21-N=N-R22中,R21、R22可相同或者不同,表示C2-5烷氧基羰基、N,N-二C1-4烷基基羰基或者哌啶子基羰基。  
摘要 本發(fā)明提供一種制備式(III)所表示的芳基5-硫代-β-D-吡喃己醛糖苷衍生物的方法。該方法按照下述反應(yīng)過(guò)程,通過(guò)使式(I)的5-硫代-D-吡喃己醛糖衍生物和式(II)的Ar-OH,在PR11R12R13表示的膦類以及R21-N=N-R22表示的偶氮試劑的存在下發(fā)生反應(yīng)而進(jìn)行制備。  
國(guó)際公布 WO2004/014930 日 2004.2.19  
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