| 公開(公告)號(hào) | CN101115706A |
| 公開(公告)日 | 2008.01.30 |
| 申請(qǐng)(專利)號(hào) | CN200680004458.8 |
| 申請(qǐng)日期 | 2006.02.09 |
| 專利名稱 | 制備普伐他汀鈉的方法 |
| 主分類號(hào) | C07C69/33(2006.01)I |
| 分類號(hào) | C07C69/33(2006.01)I;C07C67/52(2006.01)I;A61K31/22(2006.01)I;A61P3/06(2006.01)I |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2005.2.9 US 60/651,738 |
| 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 特瓦藥廠私人有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | V·克里;E·納吉涅阿爾韋;Z·佐韋克;A·科瓦奇內(nèi)-梅蔡;I·V·卡泰;C·內(nèi)梅特內(nèi)拉奇 |
| 地址 | 匈牙利德布勒森 |
| 頒證日 | |
| 國(guó)際申請(qǐng) | 2006-02-09 PCT/US2006/004822 |
| 進(jìn)入國(guó)家日期 | 2007.08.09 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 王穎煜;鄒雪梅 |
| 國(guó)省代碼 | 匈牙利;HU |
| 主權(quán)項(xiàng) | 一種普伐他汀鈉的晶形，其特征在于選自下組的數(shù)據(jù)：在3.3，3.9，5.4，6.4，16.8和17.5±0.1°2θ具有峰的X射線粉末衍射，在1157，1181，1570和1731±2cm-1具有峰的FT-IR光譜，和在約108℃具有廣譜吸熱，在約176℃具有吸熱的DSC差示熱分析圖。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及普伐他汀鈉的一種新晶形，特征在于在3.3，3.9，5.4，6.4，16.8和17.5±0.1°2θ具有峰的X射線粉末衍射，并且涉及本發(fā)明晶形的形成方法和制造普伐他汀鈉晶形B和晶形D的方法。 |
| 國(guó)際公布 | 2006-08-17 WO2006/086680 英 |
