| 公開(公告)號 | CN1628103A |
| 公開(公告)日 | 2005.06.15 |
| 申請(專利)號 | CN01819116.9 |
| 申請日期 | 2001.11.13 |
| 專利名稱 | 嘧啶衍生物 |
| 主分類號 | C07D239/56 |
| 分類號 | C07D239/56;C07D239/46;C07D239/52;A61K31/505;A61P25/00;C07D401/04 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2000.11.22 EP 00125529.8 |
| 申請(專利權(quán))人 | 弗·哈夫曼-拉羅切有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | H·斯塔德勒 |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | PCT/EP2001/013084 2001.11.13 |
| 進入國家日期 | 2003.05.19 |
| 專利代理機構(gòu) | 北京市中咨律師事務(wù)所 |
| 代理人 | 林柏楠;劉金輝 |
| 國省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項 | 下式的化合物：其中R1為低級烷基，低級烷氧基，吡啶基，嘧啶基，苯基，-S-低級烷基，-S(O)2-低級烷基，-N(R)-(CH2)n-N(R)2，-O-(CH2)n-N(R)2，-N(R)2，或下面的環(huán)狀三級胺該基團可以包含另外的選自N、O或S的雜原子，且其中該基團可通過連接基團-O(CH2)n-與嘧啶環(huán)相連接；R2為氫，低級烷基，低級烷氧基，鹵素或三氟甲基；R3/R3’相互獨立地為氫或低級烷基；R4相互獨立地為鹵素，三氟甲基或低級烷氧基；R5為氫或低級烷基；R相互獨立地為氫或低級烷基；X為-C(O)N(R)-或-N(R)C(O)-；Y為-O-，-S-，-SO2-，或-N(R)-；n為1，2，3或4；且m為0，1或2；及其藥學(xué)可接受的酸加成鹽。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及通式(1)的化合物，其中R1為低級烷基，低級烷氧基，吡啶基，嘧啶基，苯基，-S-低級烷基，-S(O)2-低級烷基，-N(R)-(CH2)n-N(R)2，-O-(CH2)n-N(R)2，-N(R)2，或環(huán)狀三級胺基團，該基團可以包含另外的選自N、O或S的雜原子，且其中該基團可通過連接基團-O(CH2)n-與嘧啶環(huán)相連接；R2為氫，低級烷基，低級烷氧基，鹵素或三氟甲基；R3/R3’相互獨立地為氫或低級烷基；R4相互獨立地為鹵素，三氟甲基或低級烷氧基；X為-C(O)N(R)-或-N(R)C(O)-；Y為-O-，-S-，-SO2-，或-N(R)-；n為1，2，3或4；且m為0，1或2；及其藥學(xué)可接受的酸加成鹽。本發(fā)明的化合物具有NK1受體親和性，且因此合適于治療與此受體有關(guān)的疾病。 |
| 國際公布 | WO2002/042280 英 2002.5.30 |
