| 公開(公告)號(hào) | CN1832936A |
| 公開(公告)日 | 2006.09.13 |
| 申請(qǐng)(專利)號(hào) | CN200480009484.0 |
| 申請(qǐng)日期 | 2004.03.29 |
| 專利名稱 | N - ( ( ( (吡啶氧 ) -苯氨基 )喹唑啉基 ) -烯丙基 )乙酰胺衍生物的制備方法、以及與這些制備方法相關(guān)的化合物和中間體、以及這些中間體的制備方法 |
| 主分類號(hào) | C07D401/12(2006.01)I |
| 分類號(hào) | C07D401/12(2006.01)I |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.4.9 US 60/461,632;2003.11.3 US 60/516,860 |
| 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 輝瑞產(chǎn)品公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | 戴維·H·B·里平;邁克爾·G·維特里諾;魏陸林 |
| 地址 | 美國(guó)康涅狄格州 |
| 頒證日 | |
| 國(guó)際申請(qǐng) | 2004-03-29 PCT/IB2004/001069 |
| 進(jìn)入國(guó)家日期 | 2005.10.09 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 北京市柳沈律師事務(wù)所 |
| 代理人 | 黃益芬;巫肖南 |
| 國(guó)省代碼 | 美國(guó);US |
| 主權(quán)項(xiàng) | 一種制備式1化合物 其藥學(xué)上可接受的鹽、和溶劑合物的方法，其中： k是1～3的整數(shù)； m是0～3的整數(shù)； p是0～4的整數(shù)； R1、R2、R4和R5每個(gè)獨(dú)立地選自H和C1～C6烷基； R3是-(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))，其中，t是0～5的整數(shù)，所述的雜環(huán)基團(tuán)任選地稠合到苯環(huán)或C5～C8環(huán)烷基上，當(dāng)t是2～5的整數(shù)時(shí)，前述R3基團(tuán)的-(CR1R2)t-部分任選地包括碳-碳雙鍵或三鍵，并且包括任何上述任選稠合的環(huán)的前述R3基團(tuán)任選地被1～5個(gè)R10基團(tuán)取代； 每個(gè)R6獨(dú)立地選自鹵素、羥基、-NR1R2、C1～C6烷基、三氟甲基、C1～C6烷氧基、三氟甲氧基、-NR7C(O)R1、-C(O)NR7R9、-SO2NR7R9、-NR7C(O)NR9R1、和-NR7C(O)OR9； 每個(gè)R7、R8和R9獨(dú)立地選自H、C1～C6烷基、-(CR1R2)t(C6～C10芳基)和-(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))，其中t是0～5的整數(shù)，該雜環(huán)基團(tuán)的1或2個(gè)環(huán)碳原子任選地被氧代(＝O)部分取代，前述R7、R8和R9基團(tuán)的烷基、芳基和雜環(huán)部分任選地被1～3個(gè)取代基取代，這些取代基獨(dú)立地選自鹵素、氰基、硝基、-NR1R2、三氟甲基、三氟甲氧基、C1～C6烷基、C2～C6鏈烯基、C2～C6炔基、羥基、和C1～C6烷氧基； 或者每個(gè)R7和R9，或者R8和R9，當(dāng)與氮原子相連時(shí)，可被一起形成4～10員雜環(huán)，該雜環(huán)除與所述R7、R8和R9相連的氮原子外，還可包括1～3個(gè)另外的雜原子部分，其選自N、N(R1)、O和S，條件是兩個(gè)O原子、兩個(gè)S原子、或O和S原子彼此不直接相連。 每個(gè)R10獨(dú)立地選自氧代(＝O)、鹵素、氰基、硝基、三氟甲氧基、三氟甲基、疊氮基、羥基、C1～C6烷氧基、C1～C10烷基、C2～C6鏈烯基、C2～C6炔基、-C(O)R7、-C(O)OR7、-OC(O)R7、-NR7C(O)R9、-NR7SO2NR9R1、-NR7C(O)NR1R9、-NR7C(O)OR9、-C(O)NR7R9、-NR7R9、-NR7OR9、-SO2NR7R9、-S(O)1(C1～C6烷基)，其中j是0～2的整數(shù)，-(CR1R2)t(C6～C10芳基)、-(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))、-(CR1R2)qC(O)(CR1R2)t(C6～C10芳基)、-(CR1R2)qC(O)(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))、-(CR1R2)tO(CR1R2)q(C6～C10芳基)、-(CR1R2)tO(CR1R2)q(4～10員雜環(huán))、-(CR1R2)qS(O)1(CR1R2)t(C6～C10芳基)、和-(CR1R2)qS(O)1(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))，其中j是0～2的整數(shù)，q和t每個(gè)獨(dú)立地是0～5的整數(shù)，前述R10基團(tuán)雜環(huán)部分的1或2個(gè)環(huán)碳原子任選地被氧代(＝O)部分取代，并且前述R10基團(tuán)的烷基、鏈烯基、炔基、芳基和雜環(huán)部分任選地被1～3個(gè)取代基取代，這些取代基獨(dú)立地選自鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、疊氮基、-OR7、-C(O)R7、-C(O)OR7、-OC(O)R7、-NR7C(O)R9、-C(O)NR7R9、-NR7R9、-NR7OR9、C1～C6烷基、C2～C6鏈烯基、C2～C6炔基、-(CR1R2)t(C6～C10芳基)、和-(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))，其中t是0～5的整數(shù)； 每個(gè)R11獨(dú)立地選自鹵素、氰基、硝基、三氟甲氧基、三氟甲基、疊氮基、羥基、C1～C6烷氧基、C1～C10烷基、C2～C6鏈烯基、C2～C6炔基、-C(O)R7、-C(O)OR7、-OC(O)R7、-NR7C(O)R9、-NR7SO2NR9R1、-NR7C(O)NR1R9、-NR7C(O)OR9、-C(O)NR7R9、-NR7R9、-NR7OR9、-SO2NR7R9、-S(O)1(C1～C6烷基)，其中j是0～2的整數(shù)，-(CR1R2)t(C6～C10芳基)、-(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))、-(CR1R2)qC(O)(CR1R2)t(C6～C10芳基)、-(CR1R2)qC(O)(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))、-(CR1R2)tO(CR1R2)q(C6～C10芳基)、-(CR1R2)tO(CR1R2)q(4～10員雜環(huán))、-(CR1R2)qS(O)1(CR1R2)t(C6～C10芳基)、和-(CR1R2)qS(O)1(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))，其中j是0～2的整數(shù)，q和t每個(gè)獨(dú)立地是0～5的整數(shù)，前述R10基團(tuán)雜環(huán)部分的1或2個(gè)環(huán)碳原子任選地被氧代(＝O)部分取代，并且前述R10基團(tuán)的烷基、鏈烯基、炔基、芳基和雜環(huán)部分任選被1～3個(gè)取代基取代，該取代基獨(dú)立地選自鹵素、氰基、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、疊氮基、-OR7、-C(O)R7、-C(O)OR7、-OC(O)R7、-NR7C(O)R9、-C(O)NR7R9、-NR7R9、-NR7OR9、C1～C6烷基、C2～C6鏈烯基、C2～C6炔基、-(CR1R2)t(C6～C10芳基)、和-(CR1R2)t(4～10員雜環(huán))，其中t是0～5的整數(shù)； 每個(gè)R13和R14獨(dú)立地選自H、C1～C6烷基和-CH2OH； R19和R20獨(dú)立地選自-(CR15R16)1OR17和OR18，其中R15和R16獨(dú)立地選自H、C1～C6烷基、和-CH2OH，1是1～3的整數(shù)，R17是C1～C6烷基，R18獨(dú)立地為C1～C6烷基，條件是R19和R20不都同時(shí)為-(CR15R16)1OR17； 其中不與N或O原子、或S(O)1相連的每個(gè)碳，其中j是0～2的整數(shù)，任選被R12取代，其中R12為R7、-OR7、-OC(O)R7、-OC(O)NR7R9、-OCO2R7、-S(O)1R7、-S(O)1NR7R9、-NR7R9、-NR7C(O)R9、-NR7SO2R9、-NR7C(O)NR8R9、-NR7SO2NR8R9、-NR7CO2R9、CN、-C(O)R7、或鹵素，其中j是0～2的整數(shù)；并且其中含有不與鹵素、SO或SO2基團(tuán)或者N、O或S原子相連的CH3(甲基)、CH2(亞甲基)、或CH(次甲基)基團(tuán)的上述任何取代基，任選地被選自羥基、鹵素、C1～C4烷基、C1～C4烷氧基和-NR1R2的基團(tuán)取代；該方法包括在催化劑、堿以及任選地配位體存在下使式2化合物 其中，X是鹵化物，并且R1、R3、R6、R11、m和p如上式1所定義，與式3化合物反應(yīng) 式3中R4、R5、R13、R14、R19、R20、和k都如上式1所 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及制備化合物(1)的方法及其藥學(xué)上可接受的鹽、前體藥物和溶劑化物，其中R1、R3、R4、R6、R11、R13、R14、R15、R16、R17、k、l和m都在說明書中定義。本發(fā)明也涉及式(3a)代表的中間體，以及制備這些中間體的方法，式(3a)中，R4和R5獨(dú)立地選自氫和C1～C6烷基；每個(gè)R13、R14、R15和R16獨(dú)立地選自氫、C1-C6烴基和CH2OH；R17和R18獨(dú)立地為C1-C6烷基；k和l獨(dú)立地為1～3的整數(shù)。 |
| 國(guó)際公布 | 2004-10-21 WO2004/089934 英 |
