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含有抗壞血酸衍生物的化妝品及藥品制劑

醫(yī)藥數(shù)據(jù)庫中心 藥學論壇 BASF公司/H·斯特雷赫爾;B·奧斯特瑟爾特;;H·維斯藤菲爾德
公開(公告)號 CN1211082C  
公開(公告)日 2005.07.20  
申請(專利)號 CN98122464.4  
申請日期 1998.11.16  
專利名稱 含有抗壞血酸衍生物的化妝品及藥品制劑  
主分類號 A61K31/375  
分類號 A61K31/375;A61K7/02;A61K7/06;A61K7/48;A61K47/22;C07D307/62  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權 1997.11.14 DE 19750526.0  
申請(專利權)人 BASF公司  
發(fā)明(設計)人 H·斯特雷赫爾;B·奧斯特瑟爾特;;H·維斯藤菲爾德  
地址 聯(lián)邦德國路德維希港  
頒證日  
國際申請  
進入國家日期  
專利代理機構 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 張元忠;溫宏艷  
國省代碼 德國;DE  
主權項 式I的抗壞血酸衍生物在化妝品和藥物制劑中的應用,其中可變化基團相互獨立地具有以下意義:R1是氫,C1-C20-酰基,C1-C12-烷氧羰基;R2是氫,C1-C12-烷氧羰基;R3是氫;R4是C1-C12-烷氧羰基。  
摘要 描述了在化妝品和藥物制劑中使用式I的抗壞血酸衍生物∴其中可變基團相互獨立地具有如下意義:R1 是氫,C1-C20-酰基,C1-C12-烷氧羰基,C1-C12-烷基;R2 是氫,C1-C20-;珻1-C12-烷氧羰基,C1-C12-烷基;其中R1和R2,與和它們鍵連的氧原子以及鍵連至氧原子的碳原子一起,可以形成一個未取代的或取代的雜環(huán):R3 是氫或選自包括NH4+,堿金屬和堿土金屬陽離子的陽離子;R4 是C1-C12-烷氧羰基。  
國際公布  
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