| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN1692114A |
| 公開(kāi)(公告)日 | 2005.11.02 |
| 申請(qǐng)(專(zhuān)利)號(hào) | CN01811480.6 |
| 申請(qǐng)日期 | 2001.06.07 |
| 專(zhuān)利名稱(chēng) | 吡唑并嘧啶酮類(lèi)的新型制備方法 |
| 主分類(lèi)號(hào) | C07D487/04 |
| 分類(lèi)號(hào) | C07D487/04;C07D295/22;C07D213/71 |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2000.6.22 GB 0015462.5;2001.3.9 GB 0105878.3 |
| 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 輝瑞大藥廠 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | M·E·邦納吉;P·C·勒維特;N·M·湯姆森 |
| 地址 | 美國(guó)紐約州 |
| 頒證日 | |
| 國(guó)際申請(qǐng) | 2001-06-07 PCT/IB2001/001038 |
| 進(jìn)入國(guó)家日期 | 2002.12.20 |
| 專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu) | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 |
| 代理人 | 李華英 |
| 國(guó)省代碼 | 美國(guó);US |
| 主權(quán)項(xiàng) | 通式I化合物的生產(chǎn)方法：其中A代表CH或N；R1代表H、低級(jí)烷基(該烷基可以被O打斷或不被O打斷)、Het、烷基Het、芳基或烷基芳基，后5種基團(tuán)均可以被一個(gè)或多個(gè)選自鹵素、氰基、硝基、低級(jí)烷基、OR5、C(O)R6、C(O)OR7、C(O)NR8R9、NR10aR10b和SO2NR11aR11b的取代基所取代或不被它們?nèi)〈?就低級(jí)烷基而言和/或可以被它們封端或不被它們封端)；R2和R4獨(dú)立地代表低級(jí)烷基；R3代表低級(jí)烷基，該烷基可以被氧打斷或不被氧打斷；Het代表可以取代或不被取代的4-12-元雜環(huán)基，該基團(tuán)含有一個(gè)或多個(gè)選自氮、氧和硫的雜原子；R5、R6、R7、R8、R9、R11a和R11b獨(dú)立地代表H或低級(jí)烷基；R10a和R10b獨(dú)立地代表H或低級(jí)烷基或與它們所連接的氮原子一起代表氮雜環(huán)丁烷基、吡咯烷基或哌啶基；該方法包括使通式II的化合物脫氫的步驟；其中通式II的結(jié)構(gòu)式如下：其中A、R1、R2、R3和R4如上述所定義。 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種通式(I)化合物的生產(chǎn)方法，其中A、R1、R2、R3和R4具有本說(shuō)明書(shū)中給定的含義，該方法包括使通式(II)的化合物脫氫的步驟。 |
| 國(guó)際公布 | 2001-12-27 WO2001/098303 英 |
