公開(公告)號
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CN1223339C
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公開(公告)日
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2005.10.19
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申請(專利)號
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CN200410026006.2
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申請日期
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2004.03.30
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專利名稱
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植入式可降解高分子材料藥物控釋載體及其制備工藝
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主分類號
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A61K9/00
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分類號
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A61K9/00;A61K47/30;G03F7/00
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權
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申請(專利權)人
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西安交通大學
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發(fā)明(設計)人
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陳天寧;王萬軍;陳花玲;王小鵬;皇甫勇;;崔戰(zhàn)友
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地址
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710049 陜西省西安市咸寧路28號
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頒證日
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國際申請
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進入國家日期
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專利代理機構
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西安通大專利代理有限責任公司
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代理人
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徐文權
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國省代碼
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陜西;61
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主權項
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一種植入式可降解高分子材料藥物控釋載體的制備工藝,首先在基體[1]上涂覆一層犧牲層[2],在犧牲層[2]上均勻涂覆一層厚度為50-600μm的SU-8光刻膠[3]后進行烘干,其特征在于:通過掩模板[4]對光刻膠[3]進行深紫外光光刻曝光,所說的掩模板[4]為一帶有通孔的微陣列結構,其通孔的孔徑為的為50-500μm;在顯影液中進行顯影處理,得到帶有微陣列結構的模具[5],模具[5]的孔深為50-600μm,孔徑為50-500μm;將聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯涂覆在模具[5]上,涂層的厚度為60-700μm;從模具[5]上脫模后得到控釋載體模具[6];將可降解高分子材料涂覆在控釋載體模具[6]上,涂層厚度為60-700μm,脫模后即得植入式可降解高分子材料藥物控釋載體。
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摘要
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植入式可降解高分子材料藥物控釋載體及其制備工藝,在犧牲層上均勻涂覆一層厚度為50-600μm的光刻膠,通過一帶有50-500μm通孔的微陣列結構的掩模板對光刻膠進行深紫外光光刻曝光,得到孔深為50-600μm,孔徑為50-500μm的帶有微陣列結構的模具,將聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯涂覆在模具上脫模后得到控釋載體模具;將可降解高分子材料涂覆在控釋載體模具上,脫模后即得寬度為50-500μm,深度為50~600μm的微陣列結構的藥物控釋載體。本發(fā)明將生物可降解材料作為植入式藥物控釋系統(tǒng)的載體,在生物酶的作用下,該載體將從外圍部分開始逐層裂解,伴隨著封閉空腔的薄壁的逐層破裂,各微型空腔中所封裝的藥物也逐步得到釋放。
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國際公布
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