| 公開(公告)號 | CN1747910A |
| 公開(公告)日 | 2006.03.15 |
| 申請(專利)號 | CN200480003902.5 |
| 申請日期 | 2004.02.10 |
| 專利名稱 | 碘化合物的制備方法以及高純度5-碘-2-甲基苯甲酸的制備工藝 |
| 主分類號 | C07B39/00(2006.01)I |
| 分類號 | C07B39/00(2006.01)I;C07C17/12(2006.01)I;C07C25/02(2006.01)I;C07C25/18(2006.01)I;C07C51/363(2006.01)I;C07C51/43(2006.01)I;C07C63/70(2006.01)I;C07C253/30(2006.01)I;C07C255/50(2006.01)I;B01J29/70(2006.01)I;B01J29/18(2006.01)I;B01J29/08(2006.01)I;B01J29/60(20 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.2.10 JP 032187/2003;2003.2.10 JP 032671/2003 |
| 申請(專利權(quán))人 | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 日高敏雄;吉村貴史;佐藤良文;伏見則夫;銅谷正晴 |
| 地址 | 日本東京 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-02-10 PCT/JP2004/001367 |
| 進入國家日期 | 2005.08.10 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 |
| 代理人 | 任宗華 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 一種碘化合物的制備方法，其中碘與底物在孔徑為500nm或以下的多孔材料的存在下，或在上述多孔材料和氧化劑的存在下反應(yīng)。 |
| 摘要 | 提供了一種碘化合物的制備方法，其中碘與底物在孔徑為500nm或以下的多孔材料的存在下，或在上述多孔材料和氧化劑的存在下反應(yīng)，以及高純度5-碘-2-甲基苯甲酸的制備工藝，其包括通過上述方法進行的碘化反應(yīng)步驟，其中通過加入水或進行冷卻和接著分離使產(chǎn)物沉淀出來的晶體沉淀和分離步驟，和其中用有機溶劑對分離出的晶體進行重結(jié)晶的純化步驟。根據(jù)上述碘化合物的制備方法，碘可以高選擇性地引入到各種底物中。因為不必使用貴金屬和特殊的試劑，因此，可以很容易地在工業(yè)規(guī)模上進行該反應(yīng)，并且可以得到高純產(chǎn)物。此外，本發(fā)明包括碘化反應(yīng)、分離和純化步驟的工藝使得可以很容易地以高產(chǎn)率獲得高純度的5-碘-2-甲基苯甲酸，其可用于功能化學(xué)產(chǎn)品如藥物。包括碘化反應(yīng)、分離和純化的步驟的特征在于，它們過程簡單，純化負載較小，并且非常有利于在工業(yè)上實施。 |
| 國際公布 | 2004-08-19 WO2004/069772 日 |
